SiC Boule /SiC Ingot


碳化硅坯料晶锭

作为碳化硅晶锭和碳化硅衬底晶片生产厂商,苏州恒迈瑞公司亦可为有需求的客户提供碳化硅籽晶坯料,即碳化硅生长晶后未进行加工的原始碳化硅晶锭,带有籽晶弧度球面,用于测试弧度球面的面形和缺陷,同时测试碳化硅Si面缺陷。
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作为碳化硅晶锭和碳化硅衬底晶片生产厂商,苏州恒迈瑞公司亦可为有需求的客户提供碳化硅籽晶坯料,即碳化硅生长晶后未进行加工的原始碳化硅晶锭,带有籽晶弧度球面,用于测试弧度球面的面形和缺陷,同时测试碳化硅Si面缺陷。碳化硅籽晶是晶体生长的基底,为晶体生长提供基础晶格结构,同样也是决定晶体质量的核心原料。籽晶位于反应器内部或原料上方。 
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物理气相传输法(PVT)

物理气相传输法(PVT)主要包含三个步骤:SiC源的升华、升华物质的运输、表面反应和结晶。
● 晶体生长时,通过改变石墨坩埚上保温材料散热孔的大小和形状,使生长室内形成15-35℃/cm区间范围的温度梯度,SiC原料处于高温区,籽晶处于低温区,炉内会保留50-5000Pa压强的惰性气体以便增加对流;
● 然后通过感应加热或电阻加热将坩锅内的温度升至 2000-2500℃, SiC原料升华产生的气相 Si2C、SiC2和 Si 在温度梯度的作用下从原料表面传输到低温籽晶处,结晶成块状晶体。

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在晶体生长中,对多型体的控制也是一个很大的挑战。研究发现多型体的稳定性与生长环境、籽晶的极性、掺杂杂质等多个因素有关系。在超过2400℃的物理气相传输法中,6H-SiC和4H-SiC都是常见的多型体。碳化硅材料具有宽禁带、高热导率、高临界击穿场强、高饱和电子漂移速率的优点,在半导体制造领域具有巨大的应用前景。



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